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国产HFE-347 HFE-449 HFE-458氢氟醚电子氟化液半导体硅片清洗 精密清洗,氟化液,硅片清洗

¥123.00元 起订量:≥1千克

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品牌 Enasolv
产品型号 HFE-347
沸点 56
KB值 13
闪点 无
比重 1.48
GWP值 低
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性能特点

  1. 安全不燃:无闪点,无需防爆车间改造,低气味,提升产线 EHS 安全等级。
  2. 超低表面张力:16.4mN/m,可渗入微小缝隙、盲孔,高效剥离微颗粒、粉尘,适合光学镀膜件。
  3. 基材友好:对各类光学镀膜、塑料、橡胶、PCB、金属稳定,不易腐蚀、溶胀、发白。
  4. 快干低残留:沸点适中,清洗后自然风干,不易产生水印斑点,免烘干。
  5. 环保可回收:ODP=0,不破坏臭氧层;支持蒸馏循环再生,危废减量,适配出口合规。

应用领域

  • 光学光电:镜头、滤光片、光学镀膜组件、LED 器件除尘、除指纹、脱模剂
  • 电子行业:连接器、继电器、半导体、PCBA 元器件轻质油污与颗粒清洗
  • 新能源:锂电、储能精密端子、绝缘件清洗,绝缘载液
  • 精密加工:轴承、微型阀件、航空精密零部件脱脂
  • 水切干燥:替代 IPA 做工件脱水干燥

理化指标

  • 产品名称:HFE-347 氢氟醚清洗剂
  • 沸点:56.2℃
  • KB 值:13
  • 外观:无色透明液体
  • 闪点:无(不可燃)
  • ODP:0,GWP:540
  • 表面张力:16.4mN/m
  • 适用工艺:气相清洗、超声波、手工擦拭、脱水干燥

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